Chinese 中文NIL Technology (NILT) 是一家以制作并经销纳米压印光刻模版为主，集压印服务、生产以及咨询为一体的专业技术公司。 NILT 同时还致力于拓展纳米结构的新兴应用领域，并取得了卓越的成就。
我们的模版可以根据客户对所刻图案的样式和材料的具体要求进行特别加工。
纳米压印模版 | 压印服务 | 纳米压印的生产建立 | 咨询服务 | NILT标准模版 | 纳米压印光刻 | 热纳米压印 | 紫外纳米压印 | 纳米压印后处理 | 常见问题解答 | 公司概况 | 管理团队 | 联系我们
纳米压印模版
NILT 根据客户订单的要求来生产模版。我们致力于为客户提供最高质量的纳米压印模版。我们的模版可用于热压印和紫外压印，并适用于所有压印版式，其结构尺寸可在 20 nm 以下。
NILT 为您提供：
NILT 的模版基于其专利的微机电系统技术，从而在最大程度上确保模版压印的均一性。
压印服务
对于没有压印设备的客户，我们可以为您提供在基底或其他装置的图型压印服务。
有热压印或紫外纳米压印可供选择以进行生产和优化处理，可在大至 150nm 为半径的模版上进行压印。
与使用电子束光刻的方法相比较，通过我们的压印服务，您可以以极其低廉的价格获得同样的纳米图案。
客户可以指定压印所使用的聚合物。我们公司对使用下列的光刻胶进行热压印积累了丰富的经验： PMMA, mr-I T85, PS, mr-I 7030 等。
NILT 一并提供纳米压印的预处理和后处理工序，从而对我们整套压印服务起到很好的辅助作用。这些处理工序包括：反映离子刻蚀，热处理，金属镀膜和 Lift-off ，晶片键合，以及晶圆切片等等。
纳米压印的生产建立
NILT 可为客户在纳米压印的生产建立方面提供指导服务。我们公司还可以向您提供热压印所需的硅和镍模板以及紫外压印所需的透明石英模板。我们的模版可用在您所拥有的任何一套工序已备的设备上。
我们的生产建立指导服务主要包括根据客户的需要来为客户进行指导并确定适用其所用压印设备的聚合体、模版材料、反粘涂料以及各个相关参量等等。
在生产建立完备后，如果您想更改先前计划或是遇到任何问题， NILT 都将会为您提供相关咨询、指导服务，直到问题最终解决。
咨询服务
NILT 会为我们的客户提供优质满意的咨询服务。
为了获得最佳压印效果，包括压印模版图型、压印聚合物以及各个相关压印参数等都必须要经过精心的设计与优化以针对不同压印情况的需要。 NILT 的工程技术人员会竭诚为我们的客户在任何环节上提供帮助与指导，满足您的各种需求。 · 模版设计方面：聚合物流动，模版图型，模版图型密度，模版图型高度，模版材料等 · 压印聚合物选取方面：流动特性， 结构刻蚀的选择性 ， Lift-off 过程的特性 ，聚合物系统的可用性 ，加工的时间等 · 压印参量：压印温度，压印压力，压印时间等 · 压印工序的选择
NILT 标准模版
纳米压印模版设计图案请参见下面图例所示：在 2 英尺范围内设有 9 个图案区域，其中每个图案区域又划分为 16 个小型区域（每个小型区域的间隙为 200 µm ），上面刻有尺寸为 250 nm, 200 nm, 150 nm 甚至小到 100 nm 的各种图案，如方格、十字形槽、直线和点。模版半径选择范围一般是 2 英寸（ 50 mm ）、 3 英寸（ 75 mm ）和 4 英寸（ 100 mm ）。
一块标准模版售价为 2450 欧元（ 3270 美元）
两块标准模版售价则为 4450 欧元（ 5940 美元） - 即节省 450 欧元（ 600 美元）
再多订购，则可享受每块 1950 欧元（ 2600 美元）的特别优惠折扣
以上报价并未包含添加抗粘涂层的价格，也不包括增值税。
纳米压印光刻
纳米压印光刻是一种经济快速的生产纳米结构的技术。
纳米压印的突出优势在于它具有电子束光刻才能达到的精度（ 20nm 以下），同时又是一种大面积平行快速加工的方法，克服了电子束光刻生产效率的问题。
电子束光刻是一种很耗时的系列工序，用于纳米结构模版的制造。电子束光刻可用来制造模版，由此就可以应用快速的压印工序将模版图案复制到基底上的高分子聚合物薄膜上。通过运用这种方法，就不必使用耗时的电子束光刻而获得高精度结构的复制品了。
纳米压印是一种批量生产纳米结构尺寸图案的技术。
一般而言，有两种纳米压印方式可被采用： 热纳米压印 和 紫外纳米压印 。
纳米结构的使用可以归结为以下三个范畴：
热纳米压印
A. 将模版和涂有热纳米压印聚合物的基底准备好 B. 模版和基底被加热到聚合物的玻璃化转变温度以上，并且模版被压印到聚合物里 C. 当模版被填充到聚合物且模版和基底的温度下降以后，将进行脱模（模版与 压印好的 聚合物相分离） D. 聚合物残留层被祛除
紫外纳米压印
A. 将模版、基底和涂有 可以通过紫外光照射固化的聚合物准备好 B. 模版被压印到聚合物里 C. 当模版被填充到聚合物里以后， 紫外光透过模板固化聚合物 D. 将模版与基底分离 E. 聚合物残留层被祛除
纳米压印后处理
压印好的聚合物一般可以被用做以下三个方面：
G1. 压印好的聚合物被用作蚀刻掩模版 G2. 聚合物被溶解
Lift-off 工序流程：
F1. 金属物被沉积在基底 / 聚合物上 F2. 聚合物被溶解， 和压印模板一样的金属图形被留在了基底上面
常见问题解答
如何订购 NILT 的纳米压印模版？
您可以发送邮件到 sales@nilt.com 与我们的销售部门联系。若您需要我们向您提供产品报价，则请您将以下几点告知我们：
模版图案是利用电子束光刻的方法刻到模版上的。电子束光刻是一种无掩模光刻过程，它使用电子聚焦光束将图案连续的刻在模版上，类似于用笔在纸上写字一样。电子束光刻是一种很典型的使用方法将最小特征尺寸在 100 nm 以下的图案刻在模版上，相比较而言，光学光刻则不行。文献报道，可用电子束光刻的最小图型尺寸为 7 nm 宽的直线。
电子束光刻可以定义的最小结构是多小？
传统的光学光刻的尺寸精度被光的边缘衍射效应所限制，但是这对于电子束光刻来说完全不成问题。这是因为，狄布罗意在 1924 年发现了电子束的波效应，我们可以把电子束看作波长足够短的波。现代的电子束光刻系统可以提供 50 至 100 千伏的加速电压，从而实现了带有 50 至 100 千电子伏特能量的电子束。 按照狄布罗意的理论，相应的电子束波长就介于 0.1 至 0.3 Å 之间，然而，电子束光刻的精度也被一些条件所限制，比如电子在光胶中的散射，从基底中返回的散射电子， 光胶的精度， 模糊效应 以及光电系统的偏移等。这些条件限制现代的电子束光刻技术只能达到 7 纳米的精度。
电子束光刻中是否可以使用正胶和反胶？
如同光学光刻技术一样，电子束光刻一样可以使用正胶和反胶。电子束光刻使用的光胶是一种对电子束波长敏感的聚合材料。在生产纳米压印光刻所需的模板时候，大部分情况我们使用负胶，这样由电子束光刻所定义的结构可以直接被刻蚀到基底里面。
正胶在显影之后形成和电子束曝光图形一样的结构，负胶则形成相反的结构。 正胶的原理是通过电子束轰击把大的分子链变成小分子，负胶是连接小的分子成为大的分子链。因此，电子束曝光过的正胶区域易于融解于显影液中，而负胶的曝光区域则不易融解。
这就是为什么正胶显影后形成相同的结构而负胶形成相反的结构。
电子束曝光然后显影之后，聚合物的结构通常被用作刻蚀掩模或者用作 lift - off 的模板。 Lift - off 后，相反的金属结构会在基底表面形成。
什么是热塑性聚合物的玻璃化转变温度？
热塑性聚合物在玻璃化转变温度一下体现为固体，在这个温度之上体现为塑性体。当聚合物被加热到融化温度以上，又体现为液体。
传统的紫外纳米压印可以被用于制作模版图案吗？
是的，所有的光刻技术都可以被用于纳米压印模版的制作。我们公司通常在制作微米结构的模板时候使用传统的紫外光刻技术。
对于同时具有纳米结构和微米结构的模板，我们结合紫外光刻和电子束光刻分别定义微米和纳米结构。
公司概况
NIL Technology (NILT) 是一家纳米科技技术公司，总部位于丹麦 Kongens Lyngby 地区。 NILT 主要从事于制作纳米压印模版、提供纳米压印服务、纳米压印的预处理和后处理工序以及相关的咨询服务。
NILT 的模版基于其专利的微机电系统技术，从而在最大程度上确保模版压印的均匀性。
纳米压印光刻技术是一种新兴的光刻技术， 它已经被国际半导体发展研究机构（ ITRS ）确认为有可能接替传统掩模光刻技术，面向 32 纳米及以下的一种技术。此外，纳米压印可广泛用于多种产品的生产制造过程，例如（但不仅限于以下领域）：
NILT 在纳米压印技术和模版的生产制造方面拥有强有力的市场竞争力和深厚的资历。
NILT 是全球半导体工业协会 SEMI 的成员之一。
请在 此处下载 关于本 公司的相关资料。
管理团队
首席执行官， Theodor Nielsen
Theodor Nielsen 毕业于丹麦技术大学 ( DTU ) 应用物理专业，并获得硕士学位。 Theodor Nielsen 是公司创立者之一，在纳米压印及其市场方面拥有资深经验。
电子邮件： theodor.nielsen@nilt.com
Brian Bilenberg 毕业于丹麦技术大学 ( DTU ) 应用物理专业，并获得硕士学位。 Brian Bilenberg 也是公司创立者之一，同样在纳米压印及其市场方面拥有资深经验。此外，他还在运用电子束光刻来制造纳米压印模版方面经验丰富。
电子邮件： brian.bilenberg@nilt.com
Lars Christian Hansen 毕业于丹麦技术大学 ( DTU ) 应用物理专业，并获得硕士学位。 Lars Christian Hansen 是公司创立者之一，他在纳米技术和半导体市场都拥有丰富的理论知识和实践经验。另外， Lars Christian Hansen 曾在澳大利亚的悉尼工作一年，主要负责于纳米压印的市场分析。
电子邮件： lars.hansen@nilt.com
联系我们
公司地址： NIL Technology DTU - Building 347
电话： +45 4525 5828 传真： +45 3927 2722
电子邮件：
公司注册号： 29310203
开户银行： Nordea Bank Danmark A/S København Vest Erhvervsafdeling Hovedvejen 112 DK-2600 Glostrup Denmark
Bank no.: 2217 Swift: NDEADKKK Account no.: 5498-273-493 IBAN: DK 87 2000 5498 273 493
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